二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件有哪些（）      ①杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数  ②杂质在硅中的扩散系数小于在二氧化硅中的扩散系数  ③二氧化硅的厚度大于杂质在二氧化硅中的扩散深度  ④二氧化硅的厚度小于杂质在二氧化硅中的扩散深度

A、②④

B、①③

C、①④

D、②③

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  • A游离二氧化硅
  • B煤尘和含游离二氧化硅
  • C煤尘
  • D粉尘

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• 下列说法不正确的是（ACD）
  A．二氧化硅溶于水显酸性
  B．二氧化碳通入水玻璃可得原硅酸
  C．因为高温时二氧化硅与碳酸钠反应放出二氧化碳，所以硅酸酸性比碳酸强
  D．二氧化硅是酸性氧化物，不溶于任何酸

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  A．贵金属表面形成二氧化硅涂层即可

  B．贵金属表面形成二氧化硅涂层，再用硅烷偶联剂处理

  C．贵金属表面用硅烷偶联剂处理，再形成二氧化硅涂层

  D．贵金属表面用硅烷偶联剂处理

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